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高反射镜广泛为光学高保真扫描反射成像之作用

点击次数:1101 发布时间:2014-06-05
 高反射镜广泛为光学高保真扫描反射成像之作用
 
  高反射镜是采用光学级别的真空磁控反应溅射先进工艺,在玻璃表面处理得到膜面反射镜,磁控溅射前镀膜高反射镜,膜层均匀、牢固、色泽美观繁多,节能效果良好。高反射镜具有干涉作用的磁控溅射镀膜玻璃对阳光中的可见光有选择性的反射和良好的透光性。
 
  一、高反射镜原理
 
  根据抛物面高反射镜的光学性质,放在抛物面焦点上的点光源发出的光,经抛物面反射后即形成与抛物面光轴平行的平行光束。实际上,高反射镜所有的光源都有一定的体积。但因大功率的探照灯反射器口径都很大,直径接近1m或1m以上,故高反射镜相对说来,由光源体积造成的反射光线的扩散很小,高反射镜探照灯发出的光通量集中在很小的立体角内。根据光度学基本概念,一定量的光通量集中在一个很小的立体角内,必然产生极大的发光强度。高反射镜一台大型探照灯轴向光强达到上亿坎德拉,投射距离可达200km。这就是探照灯能够照明远距离目标的原理。
 
  二、高反射镜的制作工艺
 
  过去制造高反射镜时,常常在玻璃上镀银,近来它蹬制作标准工艺是:在高度抛光的衬底上真空蒸铝后,高反射镜再镀上一氧化硅或氟化镁,特殊应用中,由于金属引起损失可由多层介质膜代替。因反射定律与光的频率无关,高反射镜此种元件工作频带很宽,可达可见光频谱的紫外区和红外区。
高反射镜
 
  高反射镜绝缘材料的DBR反射镜的优点是不同介质之间的折射率差较大,可以得到高的反射率,所需要的DBR反射镜对数也就越少,并且有着很大的高反射带宽度。例如高反射镜采用5对ZnSe/CaF2构成的DBR反射镜可以得到99%的反射率。而AlZO3/AlAs构成的DBR高反射镜更是只需要4对就足够了,并且有着460 nm的高反射镜带宽度。但其zui大的缺点就是DBR反射镜与有源层材料不同,无法用统一的工艺来完成,高反射镜只能通过后续工艺集成在一起,制作过程非常复杂。
 
  尽管构成DBR高反射镜的材料折射率差越大,反射率也就越高,但这同时意味着大的能带偏移。阻抗和价带的不连续性将会阻碍载流子的传输,高反射镜导致高的串联电阻。为了克服这一问题,DBR异质界面处掺杂分布需要逐级变化。目前高反射镜己经有了很多相关报道,包括台阶型、线性、抛物线型的异质界面掺杂分布。但是由于高反射镜自由载流子的光吸收,还无法实现任意掺杂浓度的生长。为了减少光吸收,整体式VCSEL中的掺杂分布经过特制,高反射镜以使光吸收可以在光场zui大处zui小。
 
  高反射镜需要对光场进行纵向的限制。而且由于谐振腔长度较短,故反射损耗比较大,因此反射率必须要很高,zui好能超过99%。高反射镜由1/4个波长厚度的高反射率和低反射率的介质材料交替组成。将多个这样的交替结构排列起来,所构成反射器的高反射镜就可以达到99%。
 
  在光学玻璃的背面,高反射镜通过真空镀膜镀一层金属银(或铝)薄膜,使入射光反射的光学元件。采用高反射比的高反射镜可使激光器的输出功率成倍提高;且是*反射面反射,反射图像不失真,无重影,为前表面反射作用。高反射镜如采用普通反射镜为第二反射面,不仅反射率低,对波长无选择性,而且易产生重影。而高反射镜采用镀膜膜面反射镜,得到的图象不仅亮度高,而且无偏差,画质更清晰,色彩更逼真。前表面高反射镜广泛为光学高保真扫描反射成像之作用。
 
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